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Semiconductor Engineering· Technical Paper Link·· 20 天前精选AI 评分62

UC Berkeley、三星与英特尔提出纳机电栅控增益单元 eDRAM

Nanoelectromechanical Switches Target More Efficient Embedded DRAM (UC Berkeley, Samsung, Intel)

AI 摘要

UC Berkeley、三星电子与英特尔的研究者联合发表《Nanoelectromechanically Gated Gain Cell eDRAM》,用纳机电开关作为增益单元 eDRAM 的栅极。

正文 · 中文整理稿

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加州大学伯克利分校、三星电子和英特尔的研究人员发表了《纳米机电栅控增益单元 eDRAM》。

摘要节选:

“存储墙以及静态随机存取存储器(SRAM)微缩的放缓,重新引发了人们对增益单元嵌入式动态随机存取存储器(DRAM)的兴趣。虽然增益单元具有高密度和能效优势,但它们存在保持时间有限、寄生耦合以及需要升压写入电压等问题。本工作提出了一种用于嵌入式 DRAM 的纳米机电栅控增益单元。”

在此处查找技术论文。2026 年 10 月

Finnan, Collin P., Choong-Ho Rhee, Tahir Ghani, and Tsu-Jae King-Liu. “Nanoelectromechanically Gated Gain Cell eDRAM.” IEEE Journal on Exploratory Solid-State Computational Devices and Circuits (2026): 223–230. https://doi.org/10.1109/JXCDC.2026.3717204. 开放获取许可。

来源:Semiconductor Engineering · semiengineering.com

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